本报讯国家"十五"863计划重点项目---超大规模集成电路制造装备取得重大突破---由北京市承担的8英 寸100纳米刻蚀机、大角度离子注入机日前通过国家验收,并进入主流生产线,创造了我国集成电路核心装备技术从无到有 并跨越五个技术代的奇迹。
北京微电子基地工艺研究中心有关人士表示,该制造装备完全按照国际主流的流程进行各项指标的检测,现在基 本上达到了国外同类设备的水平。
据悉,拥有近150项专利的国产刻蚀机价格仅为国外产品的三分之二,国内最大的集成电路代工厂---中芯 国际一次性采购6台用于扩产,这标志着我国自主研制的集成电路核心装备已由研发转入产业化轨道。微子